電的旅程 ( 218 )

「第十五章:矽谷與晶片」

<平面製程與晶片 ( 12 )……(續上)

        貝爾實驗室在電晶體及眾多其他技術的開發上,居有絕對的領導地位,但在晶片發展史上,卻扮演著配角的角色。這是什麼原因呢?最大的理由可追溯到貝爾實驗室新上任的研究主管莫頓。莫頓是當年把點觸電晶體和接面電晶體產品化的負責人。這些早期的技術,從材料到製程都非常不成熟。研究人員示範了可行性,就算大功告成,盡得榮耀,但負責生產的人,要做到產品能達到要求的性能、可靠度、良率、成本限制等,是一件極困難又不討好的事。最後莫頓和他的團隊可以成功的量產這些早期的元件,實在非常了不起。

        但在這過程中,莫頓深諳半導體技術生產之困難。當大量生產接面電晶體時,他用的是高台製程,良率很低,達到20%~30%已經相當不錯了。可是在晶片中需要把很多電晶體連接在一起,每枚晶片中只要有一個電晶體不符合規格,整個產品就要作廢。如果每一個電晶體的良率是30%,而晶片中有7個電晶體,那麼平均每枚晶片的良率只有0.02%,幾乎是零。所以單純從良率的角度來看,大型晶片根本是沒有前途的妄想。

        莫頓到處宣揚他「數目上的暴虐」(tyranny of numbers)這個概念,提醒大家對晶片的發展不要過分樂觀。其實莫頓太受個人經驗的束縛,而諾宜斯等人初生之犢不怕虎,用上了貝爾實驗室自己研發的二氧化矽知識,開發了平面製程,徹底改變了傳統的材料及製造技術。後來晶片技術的成功程度,是當時最樂觀的人也夢想不到的。有感於斯,諾宜斯對年輕人有一句名言:「不要受歷史束縛,放膽去做一些佳妙的事!」(Don’t be encumbered by history, go off and do something wonderful!)……(完)

發表留言